因此数模混合的芯片产品开发,一般需要模拟模块先投片验证,性能指标测试通过后,然后再进行整体投片 。系统开发和原型验证通过后,就进入芯片版图设计实现阶段,就是数字后端、与模拟版图拼接 。版图设计过程中,要进行设计验证,包括DRC、LVS、ANT、后仿真等等 。芯片版图通过各种仿真验证后就可以生成GDS文件,发给代工厂(或者制版厂),就是常说的tapeout了 。
代工厂数据处理,拿到GDS数据后,需要再次进行DRC检查,然后数据处理,版层运算,填充测试图形等操作,之后发给制版厂开始制版 。制版完成后,光刻版交给代工厂就可以进行圆片加工了 。圆片加工完成后,送至中测厂进行中测,也叫晶圆测试(Chip Test,简称CP) 。中测完成,圆片上打点标记失效的管芯,交给封装厂 。
封装厂进行圆片减薄、贴膜、划片、粘片、打线、注塑、切金、烘干、镀锡等等操作后,封装完成 。目前封装技术比较成熟,常见封装良率在99.5%以上,甚至99.9%以上 。芯片有些功能和性能在中测时无法检验的,需要进行成测(Final Test,简称FT) 。成测完成的芯片,即可入产品库,转入市场销售了 。芯片的研发过程,是一个多次循环迭代的过程 。
测试验证过程中发现问题,就需要返回修改设计,然后再次测试验证;后端版图实现过程中,如果时序、功耗、面积、后仿真等通不过,也可能要返回原始设计进行修改;芯片投片出来后,测试性能指标和可靠性达不到设计要求,需要分析定位问题,修改设计,再次投片验证,等等 。芯片研发环节多,投入大,周期长 。任何一个细节考虑不到或者出错,都有可能导致投片失败;技术研发充满了不确定性,可能导致时间拖延及投片失败 。
我国到目前为止到底有没有能力自主研发、制造芯片?
负责任地说,我国有能力自主研发芯片、制造芯片 。但到目前为止,我国在高端芯片的设计与制造上困难很大,不过在中低端芯片的设计和制造上,基本上已经掌握了生产链所有环节的技术 。目前,我国芯片还是以进口为主,主要的原因如下:一、高端芯片没什么好说的,因为生产工艺还没掌握,就不得不进口 。二、在中低档芯片方面,主要还是生产成本的问题,进口的芯片性价比还是高过国产芯片,所以就仍旧是以进口为主 。
但国内实际上已经掌握了多数中低档芯片的产生技术,必要时转为自行生产是可以实现的,不过就是成本比较贵,目前没必要如此做 。现在的问题是:一、芯片的知识产权,比如目前流行的主流系统架构平台的专利全都是外国公司掌握着,因此中国自己很难搞出一个可以与外国竞争的芯片架构平台 。比如华为和飞腾就被ARM公司的ARM架构约束着 。
龙芯在这方面也是深受其害,因为MIPS架构被美国WAVE公司废掉后,龙芯下一代芯片的技术线路就没了着落 。二、设计芯片的EDA工具,可以设计中高端芯片,与主流芯片架构平台可以配合使用的EDA工具全部是美国货 。国内开发的EDA工具,目前只能设计低端芯片 。而且这个EDA工具不仅是设计公司需要,实际上高级的芯片代工厂也非常需要,比如在用DUV光刻机的多重曝光来生产14纳米/7纳米芯片时,都必须要用到EDA工具来将芯片电路图拆分成多个部分 。
因此,这个EDA工具无法解决,不仅是高级芯片无法设计,实际上在生产高级芯片时也就无能为力了 。三、芯片生产设备 。不仅仅是光刻机,在从沙子到硅片,再到芯片的整个过程中,国内完全掌握到高端水平的工序真是不多,根本无法组成有效的高级芯片生产线 。而这些芯片制造工具的市场规模又特别有限,整个市场只能养活一两家公司,让开发芯片工序上需要的工具成为极不划算的事情 。
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